超純水系統,EDI超純水系統, 混床超純水系統出水水質符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18.2MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

超純水系統超純水制備技術發展史：

超純水系統第一代：預處理 -陽床-陰床-混床

超純水系統第二代：預處理 -反滲透-混床

超純水系統第三代：預處理 -反滲透-電去離子（EDI）

陽床-陰床-混床離子交換設備:

離子交換設備是利用陰、陽離子交換樹脂的交換吸附性能，去除水中的各種陰、陽離子，達到去離子的目的，離子交換設備按單臺設備分類，可分為陰床、陽床、混床。在水處理應用中，由陽床、陰床單組或陣列裝置而成，后置混合離子交換器，能得到更高純度的産出水，具有投資節省、工業成熟等特點。離子交換設備是制備高純水的必要設備，廣泛應用于電子、電鍍、鍋爐用水等領域，與RO、EDI設備組合后水質的電阻率可達到18.2MΩ.CM.

反滲透+EDI超純水設備：

反滲透裝置去除水中的溶解性鹽類物質、細菌、熱源等，然后使用連續電除鹽裝置進行深度脫鹽，使産水電阻率達到15MΩ.cm以上，再采用電子級純水樹脂精混床精除鹽，使産水電阻率達到18.2MΩ.cm，后處理采用紫外線殺菌器和精密過濾器隔絕細菌的二次污染，産水可達到國家電子級水的技術指標GB 11446.1-1997。

新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。

超純水系統,EDI超純水系統, 混床超純水系統應用場合：

☆電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

☆電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

☆顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

☆ 黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

☆液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

☆晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

☆ 集成電路生產中高純水清洗硅片

☆半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

☆LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

☆高品質顯像管、螢光粉生產

☆半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

☆超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

☆實驗室和中試車間　　

☆汽車、家電表面拋光處理

☆光電產品、其他高科技精微產品